ZLF -45℃~250℃ マルチリアクターチラー
反応物質の温度制御が可能- 火力25kW~80kW
- 出力範囲2.3kW~10.5kW
- 材料の精度±1℃
- 加熱タイプ「H」で
- 熱交換エリア3.5㎡~20㎡

反応釜用特殊温度制御システム
TCU 温度制御ユニット
化学および製薬業界の間欠反応器の温度制御に対応
温度制御
-120〜250℃
温度精度
士1°C
製品説明
TCU 温度制御システムは、既存の熱 (蒸気、冷却水、極低温液体など、いわゆる「一次」) システム インフラストラクチャを単一の流体システムに統合し、プロセス装置または二次ループの温度を制御するために使用されます。これにより、反応容器のジャケットに流入できる熱伝達液体は 1 種類だけになります (蒸気、冷却水、極低温液体が直接流入することはありません)。反応プロセス全体の温度は、操作によって制御されます。
モデル | ZLF-35N ZLF-35NS ZLF-35NH ZLF-35NSH |
ZLF-50N ZLF-50NS ZLF-50NH ZLF-50NSH |
ZLF-80N ZLF-80NS ZLF-80NH ZLF-80NSH |
ZLF-125N ZLF-125NS ZLF-125NH ZLF-125NSH |
ZLF-200N ZLF-200NS ZLF-200NH ZLF-200NSH |
温度範囲 ℃ | -45〜250度(供給元の加熱または冷却源に応じて最高温度を設定) -40~135度(グリコール水配合により最大動作温度範囲が広がります。) |
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ZLF-N | 主冷源/主熱源は比例制御システムを通じてシステムの流れを制御し、反応タンクのクランプの熱を制御し、加熱または冷却用の熱交換器のセットを制御または冷却するために使用されます。 | ||||
ZLF-NS | ZLF-N機能の他に、高温を下げるためのヒーターを1セット追加します。 | ||||
ZLF-NH | ZLF-N機能に加え、電気加熱機能を追加 | ||||
ZLF-NSH | ZLF-N機能に加えて、高温と電気加熱機能を低減するために使用される1セットのヒーターを追加します。 | ||||
熱交換器エリア | 3.5m2 | 5m2 | 8m2 | 12.5m2 | 20m2 |
電気加熱機能H | 25KW | 35KW | 50KW | 65KW | 80KW |
「H」には加熱機能があります | |||||
制御モード | フィードフォワードPID + 当社の特別な動的制御計算、LNEYA PLCコントローラ | ||||
通信プロトコル | MODBUS RTU プロトコル、RS485 インターフェース、オプションのイーサネット インターフェース/R232 インターフェース | ||||
温度制御の選択 | プロセス温度制御 | ||||
温度フィードバック | 3点の温度:熱伝導媒体の入口と出口、反応器内の材料(外部温度センサー)、PT100センサー | ||||
プロセス温度フィードバック | 原料プロセスフィードバック:PT100または4~20mAまたは通信提供 温度フィードバック:PT100 |
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温度フィードバック: 正常 PT100 | |||||
温度精度 | ±1℃ | ±1℃ | ±1℃ | ±1℃ | ±1℃ |
循環ポンプ | 150L/分 2.5BAR | 200L/分 2.5BAR | 400L/分 2.5BAR | 500L/分 2.5BAR | 750L/分 2.5BAR |
入力と表示 | 7インチカラータッチスクリーン、温度グラフ表示 | ||||
安全保護 | 自己診断機能、冷凍庫過負荷保護、高圧スイッチ、過負荷リレー、熱保護装置、液面低下保護、高温保護および温度障害保護。 | ||||
バルブピースの製作 | 電気比例制御弁、制御信号4〜20mA。 | ||||
配管材料 | SUS304 | ||||
接続サイズ | DN40 | DN40 | DN-50 | DN-65 | DN-80 |
寸法 cm | 150*120*185 | 180*120*210 | 180*120*210 | 225*120*240 | 225*120*240 |
力 AC380V50HZ |
2.3kw(最大) | 3.5kw(最大) | 4.5kw(最大) | 8kw(最大) | 10.5kw(最大) |
Hパワーで AC380V 50Hz |
27.3kw(最大) | 38.5kw(最大) | 54.5kw(最大) | 73kw(最大) | 90.5kw(最大) |
ケース素材 | SUS304 | SUS304 | SUS304 | SUS304 | SUS304 |
温度プロセス制御原理(反応釜材料温度の制御)
反応釜プロセスの温度制御
サポート反応釜は、化学および製薬業界における正確な温度制御のための特別な装置です。


製薬企業における反応釜システムの統合温度制御装置TCU設置場所
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